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利用ArF准分子激光退火获得小锗量子点的研究
使用ArF准分子激光脉冲对UHV/CVD条件下生长的Ge量子点进行退火处理,获得了底宽为20-25nm的光致量子点(LIQD),远小于退火前的量子点......
期刊
GE量子点
ArF准分子激光退火
光致量子点
原子力显微镜
Ge quantum dot
ArF excimer laser annealing
LIQD
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